Visoka trdota in nizek koeficient trenja sta ključna parametra pri modernih nanosih in nanokompozitnih tankih plasteh za zmanjšanje obrabe. Kompleksni nitridi intermetalnih zlitin na osnovi titana, aluminija, niklja in železa so obetajoči materiali za visokozmogljive nanose. Preizkušeno je bilo ionsko nitriranje v pulzirajoči plazmi Ni3Al in TiAl3, ki sta bila izdelana po SHS (Self propagating high temperature synthesis)-metodi sinteze iz mešanice elementnih prahov v atmosferi argona. Vsebnost in vrsta nitridov je bila določena z XPS-metodo. Raziskava je potrdila vsebnost nitridov z vezavno energijo 397,2 eV ter nastanek nitridov AlN z vezavno energijo Al 2p 74,6 eV na Ni3Al, medtem ko nitridov TiN na zlitini TiAl3 nismo potrditi, verjetno zaradi prenizke temperature ionskega nitriranja.

Pravice

URN

URN:NBN:SI:DOC-JG1ZYLFL

COBISSID

327338

Objavljeno

16.09.2009

Metapodatki

Citiranje

APA:

Torkar, Matjaž, Rosenband, Valery (2003). XPS-analiza Ni3Al in TiAl3, ionsko nitriranega v pulzirajoči plazmi. Materiali in tehnologije, letnik 37, številka 6, str. 365-368. URN:NBN:SI:DOC-JG1ZYLFL from http://www.dlib.si

MLA:

Torkar, Matjaž, Rosenband, Valery. "XPS-analiza Ni3Al in TiAl3, ionsko nitriranega v pulzirajoči plazmi." Materiali in tehnologije letnik 37. številka 6 (2003) str. 365-368.
<http://www.dlib.si/?URN=URN:NBN:SI:DOC-JG1ZYLFL>

Materiali in tehnologije
2000-
(Zbirni zapis)

XPS-analiza Ni3Al in TiAl3, ionsko nitriranega v pulzirajoči plazmiAn XPS analysis of Ni3Al and TiAl3 ion nitrided in a pulsed plasma

XPS-analiza Ni3Al in TiAl3, ionsko nitriranega v pulzirajoči plazmi
An XPS analysis of Ni3Al and TiAl3 ion nitrided in a pulsed plasma