Characterization of hard Ti-W-N films deposited by reactive d.c. magnetron sputtering
Karakterizacija trdih TiWN plasti deponiranih z reaktivnim dc magnetronskim naprševanjem

angleški

1999

letnik 33, številka 6

kovinske prevleke   volfram    nitridi   naprševanje   mikrostruktura    trdota 

Inštitut za kovinske materiale in tehnologije

TiWN plasti so bile deponirane z reaktivnim magnetronskim naprševanjem iz W-Ti (30 at.%) tarče v atmosferi iz dušika in argona na substrate iz jekla in silicija na oddaljenosti 50 nm od tarče. Skupni pritisk pred začetkom naprševanja je bil 0.5 Pa, pretok plina pa 50 sccm. Značilni parametri depozicije so bili: temperatura substrata 320°C, hitrost depozicije 3 mm/s, debelina plasti 3.5 ?$\mu$?m, bias substrata -100 V in poprečni ionski tok substrata 1.2 mA/?$cm^2$?. Kristalna struktura, sestava in mikrotrdota so bile določene v odvisnosti od parametrov depozicije: vsebnost dušika v atmosferi ter gostote ionskega toka in biasa substrata. Plasti z manj od 30 at.% dušika so bile sestavljene iz bbc W in hcp Ti faz. Trdota teh plasti je rastla z vsebnostjo dušika od 25 GPa za 0% do maksimuma 60 GPa pri 25 at.% N. Povečanje trdote je rastlo z mikrodeformacijami, ki so se pokazale s širjenjem uklona X žarkov. Plasti z nad 30 at.% N so imele trdoto okoli 40 GPa, uklon X žarkov pa je bil značilen za neko fcc fazo.

16.09.2009